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usdt充值(www.caibao.it):刘德音:台积3奈米进度超前

admin2021-02-2832

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usdt充值(www.caibao.it):刘德音:台积3奈米进度超前 第1张 刘德音ISSCC 2021专题演说重点

晶圆代工龙头台积电报喜!董事长刘德音克日受邀于2021年国际固态电路 *** 开场线上专题演说时指出,台积电3奈米制程依计画推进,甚至比预期还超前了一些,3奈米及未来主要制程节点将准期推出并进入生产。台积电3奈米制程预计今年下半年试产,明年下半年进入量产。

刘德音在演说时虽未透露3奈米进度会超前若干,但此一新闻仍令市场感应振奋。

刘德音董事长以「释放创新未来」为演说主题,指出半导体制程微缩脚步并未减缓,摩尔定律仍然有用,台积电3奈米比预期进度超前,至于2奈米之后的电晶体架构将转向围绕闸极的奈米片架构,而极紫外光手艺可支援到1奈米。

刘德音指出,半导体整合每踏出乐成的一步,都需要支出愈来愈多的起劲,而半导体手艺刚推出时,虽然只有少数人接纳,然则最后功效会是由民众享受,「台积电制程及制造能力可以让世界上多数人受益」。

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台积电2020年推出5奈米制程并进入量产,与7奈米相较,逻辑密度提升1.83倍,运算速率增添13%,运算功耗下降21%。台积电预计2022年推出3奈米制程,与5奈米相较逻辑密度提升1.7倍,运算速率提升11%且运算功耗可削减27%。

刘德音也提及EUV微影手艺的重要性与日俱增,他指出,EUV虽突破晶片尺寸限制,能使用较少层数的光罩,但产量仍是问题。相较于已往接纳的浸润式微影手艺,EUV的功耗明显提高,为此台积电已在350W雷射光源手艺上获得突破,可支援5奈米量产,甚至能支援到更先进的1奈米制程节点。

台积电基于量产上的考量,5奈米及3奈米仍然接纳鳍式场效电晶体架构,但在质料创新上有所突破,在5奈米制程导入高迁移率通道电晶体,将锗整合到电晶体的鳍片当中,导线也接纳新一代的钴及钌等质料来连续挑战手艺限制。至于2奈米之后,台积电将转向接纳GAA的奈米片架构,提供比FinFET架构更多的静电控制,改善晶片整体功耗。

台积电日前宣布将在日本建立研发中央扩展3D IC质料研究,刘德音也提及台积电在新质料上的手艺创新,包罗六方氮化硼已靠近实现量产,与台湾学界团队互助乐成以大面积晶圆尺寸生长单晶氮化硼等。他也指出,系统整合是半导体未来生长方向,Chiplet是能让手艺朝向正确方向生长的要害,而台积电的SoIC先进封装手艺可实现3D晶片堆叠。

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